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日本将258亿元投向DRAM巨头以提高芯片生产力

2025-10-15 09:44:56

9月12日,日本经济产业省宣布决定,向美光科技处于广岛县东广岛市的DRAM内存制造基地提供最高5360亿日元(约合258.69亿元人民币)的财政补贴。
 
按照规划,美光科技预计于2025年在广岛市工厂引入EUV光刻机,同时启动其先进的1-gamma(1γ)制程DRAM芯片的量产前期准备工作。日本政府这次再一次提供大规模的财政支持,目的在于加强美光科技在当地落实先进DRAM芯片制造项目,从而提高日本在国内内存芯片领域的自主生产力。
 
这笔补贴中,约5000亿日元将主要用于DRAM新标准厂房建设和生产落实,另外还有360亿日元将专项扶持美光科技在高性能存储器领域的研发工作。作为配套投资,美光科技预计在该工厂投入约1.5万亿日元,预计于2026年初启动建筑工程施工,目标在2027年实现基于EUV光刻技术的下一代1γ制程DRAM芯片的宣布量产。
 
据了解,该工厂在延续传统DRAM技术的同时,将进一步扩大高带宽内存(HBM)的产能布局,以应对人工智能和大数据处理领域不断增长的市场需求。目前,广岛市Fab15厂房承担前道晶圆制造任务,而新工厂项目将通过引入多台EUV光刻设备及高标准化洁净室,进一步推进DRAM制程产品升级与整体产能扩张。
 

本文关键词:DRAM
 

上一篇文章:德国芯片补贴“缩水”,半导体战略遭遇财政现实


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